下一代技术路径完全模糊，从未能真正的迭代。
全国所有科研院所，都在盲目试探，有人死磕近距离接近式光刻，有人盲目攻坚短波长光源，有人耗费数年打磨机械结构，始终找不到明确的迭代方向，大量人力物力白白耗费在错误的技术分支上。
这份来自海外的绝密蓝图，直接给黑暗中摸索的中国半导体，点亮了整条通天大道。
一位深耕光学系统研发三十多年的老专家，国内光学系统的总负责人王知江指尖微微颤抖，扶了扶老花镜，死死盯着幕布上的迭代链路，声音带着难以抑制的颤栗：“接触式光刻——接近式光刻——投影式光刻——步进扫描光刻……他把每一代的迭代逻辑都写透了！”
他指着路线图上清晰的节点，呼吸骤然急促。
“我们现在还在死磕接触式的磨损、对位误差问题，所有人都以为这就是当前最优解，最多改良优化，可这份资料直接点明，接触式只是过渡，投影式才是大规模量产的核心突破口！”
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身旁负责光源攻坚的激光材料与光刻光源研究室主任甘福喜猛地前倾身体，双眼通红，死死盯着光源迭代一栏，瞬间失声：“最初的光源路线和理论预研对上，这份路线图的价值很高，有可能是真的！
从当前主流的汞灯线436nm、线365nm，下一步直接迭代KF准分子激光248nm，再进阶AF准分子激光193nm！每一次波长缩短对应的精度提升、制程升级、晶圆尺寸扩容，全部标注清清楚楚！”
在场所有人浑身震颤。
目前国内学界根本没有准分子激光用于光刻的概念，更没人敢预判波长迭代的完整时序，所有人都被困在传统汞灯的技术牢笼里，不知道未来的光源出路在哪。
有时候研究与答案只差那么一张薄薄的窗户纸，而现在，有人将答案直接糊在了所有人的脸上。
更让众人头皮发麻的是，蓝图末尾，还提前标注出了无人能预判的颠覆性技术伏笔。
光机所光刻设备的青年骨干程照谷惊疑不定的指着蓝图右侧，大声道：“你们看最后！193nm波长之后，不靠继续死磕极短波长，而是用浸润式光刻，以高纯水替代空气间隙，
我知道了，是折射率，水的折射率高于空气，利用纯水的折射率，强行抬升数值孔径NA、突破衍射极限，我的天呐！这是哪个神仙想出来的法子？完全没有用上复杂的技术，仅仅是简单的利用了‘瑞利准则’，这个，这个思路，我实在是跟不上啊！”
说着说着，竟然当场嚎啕大哭了起来。
自己一直以来的殚精竭虑究竟是为了什么？
人家只用一滴水就解决了大问题。
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