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如果说此前海外秘密带入的M-7412开放式微型整机，让国内所有计算机领域专家真切摸到了国内外整整十年的代际差距。
已经成型16位模块化，带完整操作系统与硬盘字库的商用微型计算机，彻底辗压了国内仍然在攻坚分立元件和8位简易单板机。
（实际上没有，纯属自己人吓唬自己人的恶作剧，亏是秘密战线不懂行，不然也要心累）
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那么此刻，新开马甲“攻城狮”通过秘密战线，递送到沪江市光学仪器厂、无线电专用设备厂、元件五厂和光学机械厂这几个重点光学光刻机研究单位的半导体与光刻机完整技术蓝图，彻底颠覆了数十位国内顶尖光学、精密机械、微电子专家在现有研发认知和当下攻坚方向。
这是一份来自于小日子举国攻关VL（超大规模集成电路）最前沿，也是最重要的技术路线图。
这意味着鬼子们的家底被偷了！（仍旧不是真相）
封闭式保密会议室昼夜灯火通明，窗帘全部密闭，外面站满了武装保卫人员，连只苍蝇飞进来也必须有通行证，翅膀都搜一下有没有夹带，这是最高规格的保密程度。
长桌两侧，国内光学精密加工、光刻设备、半导体器件、晶圆工艺的顶尖骨干与老泰斗悉数在座，看着挂在墙上，放大扩写后由硫酸纸复制的全球光刻设备迭代完整路线图。
没有模糊的猜想，没有空泛的理论，从光刻技术的最初技术原点，条理严密和层层递进的一直推理到未来的概念性方向。
每一代设备的技术原理、光源迭代、工艺节点、晶圆适配尺寸、攻坚难点、突破方案，全部标注一清二楚。
在此之前，国内光刻研发完全是盲人摸象式摸索。
在国家战略级层面的技术研发领域，实际研发时间往往并不是社会公众表面上看到的，有可能需要往前推二十年，甚至五十年。
这就是民用与战略级军用的实际代差，譬如互联网APANT，真正始于 1969年，全球范围正式开始商业应用为 1995年，相差26年。
东大在光刻机领域却是真正的从零基础开始，65型接触式光刻机自问世以来，一直都在零敲碎打的改进，长期停留在初代接触式光刻的攻坚阶段，精度低、良率差、磨损严重。
