再就是曝光了，越细的线条，曝光强度需要越大。初代光刻机，普通汞灯就可以了，制造一些简单的电路板之类的。
而第二代光刻机，电路线路开始复杂，密集。想要刻制在很小的一个地方上，线条就要细。因为线条不细，两条线条相碰，那就直接废了。
线条细的问题，江成上次离开深圳的时候，就已经通过设计的几套透镜组合方式解决了。在曝光方面，从香江那边采购高压汞灯可以解决。
科技中心这边唯一要做的就是设计出一套精密的操控设备，来达到各种角度和距离的偏差都在某个纳米的数值之下。
并且跟初代光刻机不同的是，必须使用无尘操作间了。因为到了第二代的水平，空气中的尘埃在显微镜下，大小已经不比线路细了。
在曝光的时候，如果有尘埃正好在线路之间，直接会让产品报废变成不合格。
最难的透镜组合设计被江成完成了，要是黄文仪她们一整个团队，连精控设备这方面都搞不定，那她这后世晶片之母就有点名不副实了。
现在科技中心这边有了重大进展，就是第二代光刻机已经制造出来了。可能很多地方还需要完善，让它的速度更快，更灵活，误差更小。
但是已经满足了大规模集成电路的制造，甚至是固态处理晶片也可以加工了。
这意味着两点，一是大哥大”样式的移动手机还没正式投放市场，已经可以生产小型号的手机了。
另外就是大江公司也可以制造电脑计算机了，这个年代很小内存的一台电脑都要上万，目前主要运用在辅助计算工作上面。
这也是科技中心很需要的辅助设备，就算是生产上千台电脑，也只够自用的，后期要的更多。能自产电脑，别说卖了，光内部使用，按照现在进口电脑的价格，能节省上亿。
而黄文仪想制造大规模集成电路，实际上也是想往电脑计算机方面发展。
